準(zhǔn)分子激光退火系統(tǒng)
系統(tǒng)概述準(zhǔn)分子激光退火系統(tǒng)采用準(zhǔn)分子激光作為光源，經(jīng)過勻光、整形后獲得極均勻的高能量密度線型激光束，可實現(xiàn)大面積樣品均勻掃描。準(zhǔn)分子激光退火系統(tǒng)輸出波長短，光子能量大，樣品吸收深度小，主要用于薄膜材料的退火或改性研究，如低溫多晶硅薄膜退火、光電功能薄膜材料開發(fā)等。系統(tǒng)特點線掃描光束，可實現(xiàn)大面積樣品均勻處理采用多級透鏡整列勻光技術(shù)，光束均勻性好激光波長可選擇308nm、248nm，351nm、193nm可定制線光束尺...
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